SK Hynix streeft naar lokalisatie van door Japan gemonopoliseerde EUV-fotoresten... Partnerschap met Dongjin Semichem SK Hynix is begonnen met de lokalisatie van Extreme Ultraviolet (EUV) fotoresten (PR), een markt die gedomineerd wordt door Japan. Deze stap is bedoeld om de toeleveringsketen voor essentiële geavanceerde halfgeleider-materialen te versterken, terwijl tegelijkertijd de concurrentiekracht van de halfgeleiderproductie wordt verbeterd. Volgens industriebronnen op de 7e is vastgesteld dat SK Hynix is begonnen met de ontwikkeling van hoogpresterende EUV PR in samenwerking met Dongjin Semichem. Het doel is niet alleen om de EUV PR te vervangen die eerder werd geleverd door Japanse bedrijven zoals JSR en Tokyo Ohka Kogyo (TOK), maar ook om materialen te ontwikkelen die superieure prestaties leveren. Een officiële bron die bekend is met de zaak verklaarde: "Ze hebben materialen nodig die betere prestaties kunnen leveren dan Japanse producten," en voegde eraan toe: "Ik begrijp dat ze specifiek verbeteringen in PR-gevoeligheid hebben gevraagd om de productiviteit te verhogen." SK Hynix heeft eerder in 2023 EUV PR gelokaliseerd via zijn dochteronderneming, SK Materials Performance. Het product dat toen werd gemaakt, stond echter bekend als van lagere specificatie. Voor hoogpresterende PR die wordt gebruikt in kritieke halfgeleiderlagen, heeft het bedrijf tot nu toe 100% op Japan vertrouwd. PR is een materiaal dat wordt gebruikt in het lithografieproces. Wanneer licht wordt bestraald (blootgesteld) op een wafer om microcircuits van halfgeleiders af te drukken, is PR de stof op het oppervlak van de wafer die reageert op het licht. EUV is een essentiële blootstellingstechnologie voor het implementeren van ultrafijne circuits rond de 10 nanometer (nm), en ASML uit Nederland is de enige leverancier ter wereld van EUV-lithografieapparatuur. SK Hynix zet zich in voor de ontwikkeling van EUV PR om het gebruik van lithografieapparatuur, die tot 200 miljard won per eenheid kost, te maximaliseren en om te reageren op de snel groeiende vraag naar EUV-lagen in DRAM. Volgens de halfgeleiderindustrie vermindert een verhoogde PR-gevoeligheid de blootstellingstijd. Omdat de reactietijd sneller is, is het mogelijk om microcircuits in kortere tijd te implementeren. Dit betekent dat de productiecapaciteit kan variëren afhankelijk van de gebruikte PR, zelfs met dezelfde apparatuur. Bovendien, naarmate EUV-processen toenemen in DRAM, is de behoefte aan PR-ontwikkeling gegroeid. Het aantal EUV-lagen per generatie is: één voor de 10nm-klasse 4e generatie (1a), drie voor de 5e generatie (1b), vijf voor de 6e generatie (1c) en zeven voor de 7e generatie (1d). Het wordt verwacht dat dit verder zal toenemen voor sub-10nm-producten. Materiaalontwikkeling kost veel tijd en EUV PR heeft hoge toetredingsdrempels. Het is moeilijk te voorspellen welke resultaten de samenwerking tussen SK Hynix en Dongjin Semichem zal opleveren. Natuurlijk, als commercialisering succesvol is, kan het dienen als een kans om de concurrentiekracht van de binnenlandse materiaalindustrie naar een hoger niveau te tillen. Een officiële van SK Hynix verklaarde: "We kunnen specifieke ontwikkelingsdetails niet openbaar maken," maar voegde eraan toe: "We blijven samenwerken met verschillende bedrijven, waaronder materiaalproducenten, om de productiviteit te verbeteren."