Prezentăm Runway AI Summit — o nouă întâlnire de o zi întreagă la New York, pe 31 martie, care reunește lideri din industrie din media, film, publicitate, tehnologie și altele pentru a explora modul în care AI remodelează modul în care se realizează munca creativă. Primul nostru discurs principal: Kathleen Kennedy de la Lucasfilm, cu mai mulți vorbitori care urmează să fie anunțați. Află mai multe și înscrie-te la linkul de mai jos.

Înregistrează-te: